樂依文半導體(東莞)有限公司,位于東莞市長安鎮廈崗振安工業園,主要經營半導體裝配、半導體測試、半導體配套加工,是全球領先的一家提供半導體封裝測試以及設計封裝類型的跨國公司。公司現有工業廢水排放量1600 m3/d,目前實際排放水量1000 m3/d,其中高濃度廢水(電鍍及蝕刻清洗水)60m3/d,單晶硅打磨清洗廢水940m3/d?;赜孟到y按照1000 m3/d總水量設計,回用率60%,即600m3/d,20H運行,產水量30 m 3/H。其余400 m3/d水量達標排放。三人行環境提供了 廢水處理工程方案設計,工程施工、設備安裝,調試運營一站式解決方案
現有兩種工業廢水,其難點是高濃度廢水水量少、COD、總溶解性固體含量高(大于2200mg/L),而打磨清洗廢水水量大、懸浮物多、總溶解固體含量低(小于50mg/L)。
1、進水水質
1.電遷移膜堆
廢水站砂碳罐,排出水直接進入膜堆,這是本設計的最大亮點:
①可以使深度脫硅系統負荷減少40%,處理后產水600T/d即達工業自來水回用水質;
②所產40%即400T/d濃水,既可達標排放,也可作雜用水回用。
如果使用常規雙膜法UF/RO系統,則不可能有上述優點,也風險極大。
2.深度脫硅系統
該工業廢水處理系統功能,使除鹽淡水由常規中水回用水質提升達到工業自來水水質,便于向RO純水站供水,它包括:
①硅膠脫穩反應器:這是一個微波催化電氧化反應器,在催劑作用下,使水中殘余硅膠脫穩,COD降解。
②硅膠凝聚反應器:在絡合劑作用下,進一步使殘余溶解性SiO3硅反應、絡合、析出,同時使脫穩了的硅膠凝聚。
③碳纖維袋過濾器:截留由上述兩步反應析出的,粘性硅膠凝聚物,它是快開式結構,便于拆洗、更換。
④活性碳吸咐塔:常規設備,產水便達到COD<10、SiO3<50,供RO站用水。
3.濃水消毒系統
由于本工藝所產濃水能達到國標雜用水標準,故消毒后可用于綠化、沖廁、洗車,此段工藝設備常規,消毒用UF+O3即可。
4.回用水水箱
貯存回用產水,為廠方生產提供穩定的用水量及水質。
5.電控系統電控系統
采用自動控制整套系統的運行??梢詫崿F自動化控制。電氣配件采用國內知名品牌,保護了電控系統的質量及穩定運行。
6.管道系統
管道系統低壓部分采用材質為UPVC工程塑料,可以在給水過程中,防止水質不被二次污染。設計范圍僅限于從排放口蓄水池到中水回用系統,回用系統廠方指定的貯水點。